牛津儀器 FlexAL原子層沉積（ALD）系統(tǒng)
名稱：其他儀器與工具
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簡介：原子層沉積 (ALD) 是一種真正的納米技術, 可以準確可靠地沉積僅幾個納米厚的超薄薄膜。等離子體可以實現出色的表面預處理, 控制薄膜性質以及作為種類廣泛的沉積源。 牛津儀器 FlexAL原子層沉積（ALD）系統(tǒng) 可提供遠程等離子體原子層沉...
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- 產品介紹
原子層沉積 (ALD) 是一種真正的納米技術, 可以準確可靠地沉積僅幾個納米厚的超薄薄膜。等離子體可以實現出色的表面預處理, 控制薄膜性質以及作為種類廣泛的沉積源。牛津儀器 FlexAL原子層沉積（ALD）系統(tǒng)可提供遠程等離子體原子層沉積（ALD），這為納米結構和器件的工程設計提供了一系列新的靈活性和可行性。
牛津儀器 FlexAL原子層沉積（ALD）系統(tǒng)涵蓋的系列設備可以滿足學術界、企業(yè)研發(fā)和小規(guī)模生產的多種需求。
牛津儀器 FlexAL原子層沉積（ALD）系統(tǒng)涵蓋的系列設備可以滿足學術界、企業(yè)研發(fā)和小規(guī)模生產的多種需求。
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在同一設備中可靈活使用遠程等離子體與熱ALD
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集群式配置保證始終于真空下傳送襯底
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盒式對盒式操作可提高產能以適于量產
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對材料和氣體/液體源的選擇具有更大的靈活性
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等離子體ALD可進行低溫工藝
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使用遠程等離子體以確保低損傷
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通過配方驅動的軟件界面實現可控的和可重復的工藝
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可處理高達200mm的晶圓
牛津儀器 FlexAL原子層沉積（ALD）系統(tǒng)特點
牛津儀器有大量的工藝儲備，并且還在不斷開發(fā)新的工藝。我們?yōu)樗械腁LD設備提供終身免費的、延續(xù)不斷的工藝支持，我們還將為您提供關于開發(fā)新材料的建議，同時繼續(xù)與您共享包括新工藝配方在內的新的ALD工藝進展。
氣體/液體源前驅體模式上 - 一體化手套箱 —— 實時轉換
一體化端口 - 允許添加實時橢偏儀測量工具
集群式配置 - 始終于真空下傳送襯底
盒式對盒式操作 - 可提高產能以適于量產
機器手臂與片盒式 - 可處理100mm，150mm或200mm晶圓（無需額外設備進行晶圓交換）
所有系統(tǒng)都可以放置于超凈間內或嵌入墻體 - 易于放置
自動化的200mm晶圓真空傳送 - 工藝靈活性
牛津儀器 FlexAL原子層沉積（ALD）系統(tǒng)應用
- 納米電子
- 高K柵氧化物
- 存儲電容電介質
- 用于Cu互連的高深寬比擴散隔層
- 用于OLED和聚合物的無針孔鈍化層
- 用于晶體硅太陽能電池的鈍化
- 用于微流體和MEM的高保形涂層
- 納米多孔結構的涂層
- 生物MEMS
- 燃料電池
- 學習
- 原子尺度工藝
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